03-31
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产品详情
参数
直线式劳埃透镜镀制机，是为高能同步辐射光源（HEPS）研发的高端仪器装备，用于制备硬X射线纳米聚焦的劳埃透镜膜层。最主要的特点是膜层层数多（数千层甚至更多）且膜层位置和厚度精度高（总位置平均误差小于±5nm，每层的厚度误差小于0.1nm）。为了保证每个膜层的厚度精度，采用磁控溅射技术来实现膜片的制备，其优点是，能够精确控制膜层厚度，重复性好，薄膜与基片结合紧密，薄膜纯度高、致密性好。
性能参数：
进样室
本底极限真空度<8×10-5Pa
腔室漏率<1×10-7Pa.L/s
基板加热最高温度≥500℃
沉积室
极限真空度：<8×10-6Pa
腔室漏率<1×10-8Pa.L/s
靶位个数≥9个
靶与样品间距离60~100mm手动可调
单个电源可切换的靶位个数≥4个
基板加热最高温度≥200℃
运动系统速率稳定性≤0.1% /300mm
运动系统直线度≤30μm/300mm
检测室
极限真空度：<8×10-6Pa
腔室漏率<1×10-8Pa.L/s
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倍增级磁控镀膜机
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